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            • PVD真空設備

            PVD真空設備

            型號:PTC-PTAS1215
            有效空間:φ1200*1500mm
            占地面積:4200*6000*3500
            電量:150KW
            立即咨詢

            咨詢熱線:400-1558-796

            • 專業的技術團隊

            • 優質的產品

            • 成熟的生產工藝

            • 強大的開發能力

            產品詳情Product Details

            大容量靈活模塊設計、精確制造

            ? 發光二極管

            ? 太陽能集中器電池的基板

            ? 功率半導體封裝     包括汽車電機控制

            ? 混合動力    和電動汽車動力管理電子

            ? 射頻封裝。微波設備

            DPC過程-----直接電鍍銅是一種被運用在電子行業LED和半導體技術的涂層。其中典型的應用是氧化鋁上的銅導電膜沉積涂層  , 通過PVD真空濺射技術制造的基板已成為一體,與傳統的制造方法相比,生產成本要低的多。


            優勢:1、防擦傷   2、延長產品的使用壽命   3、環保工藝   4、簡單易懂的操作系統   5、維護簡便   6、低成本

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            • 企業郵箱: james@parylene-cn.com
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